B合金ターゲット用、純度99～99.99%のホウ素結晶粒（5～10mm）
ホウ素合金ターゲット用の99～99.99%ホウ素結晶顆粒（5～10mm）。ホウ素純度は99%から99.99%まで。完全な結晶構造、低不純物含有量、安定した化学特性、低ガス放出を特徴としています。
主にホウ素合金スパッタリングターゲットの原料として使用されます。真空溶解、合金精錬、半導体薄膜コーティング、PVDターゲット作製、および高度な電子材料製造に適しています。金属マトリックスに添加することで、均一な組成のホウ素含有合金ターゲットを作製できます。
中国製 3N 4N 結晶性ホウ素粒状 3-5mm 5-10mm の製品一覧:
| 分子式： | B |
| CAS | 7440-42-8 |
| 密度 | 2.3 g/cm3 |
| 段階 | β-B相 |
| 融点 | 2300℃ |
| 沸点 | 2550℃ |
| モース硬度 | ＞9 |
| 相対原子質量 | 10.81 |
| 安定同位体 | 10B、11B |
| 色 | ダークグレー、ブラック |
化学組成：
| 化学薬品 | 2N結晶性ホウ素 | 3N結晶性ホウ素 | 4N結晶性ホウ素 | 5N結晶性ホウ素 | 6N結晶性ホウ素 |
| B | 99%以上 | 99.9%以上 | 99.99%以上 | 99.999%以上 | ≥99.9999% |
| 鉄 | ≤500 ppm | ≤200 ppm | ≤90 ppm | ≤8 ppm | ≤0.5 ppm |
| で | ≤2.5 ppm | ≤0.08 ppm | ≤0.06 ppm | ≤0.02 ppm | ≤0.02 ppm |
| で | ≤1 ppm | ≤0.8 ppm | ≤0.3 ppm | ≤0.03 ppm | ≤0.03 ppm |
| と | ≤12 ppm | ≤10 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.03 ppm | ≤0.03 ppm |
| Sn | ≤30 ppm | ≤9 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.08 ppm |
| マンガン | ≤300 ppm | ≤3 ppm | ≤1.1 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.07 ppm |
| Pb | ≤0.08 ppm | ≤0.3 ppm | ≤1.1 ppm | ≤0.08ppm | ≤0.02ppm |
| それ | / | ≤18 ppm | ≤0.2 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.01 ppm |
| として | / | / | / | ≤0.08ppm | ≤0.01ppm |
| で | / | / | / | ≤0.05ppm | ≤0.02ppm |
| ゲ | / | / | / | ≤0.05ppm | ≤0.04ppm |
標準サイズとパッケージ：
| ホウ素含有量 | 標準サイズ | パッケージ |
| 99 | 1～5μm、10～30μm、50～100μm | 1kg/5kgは真空アルミホイル袋に包装されています（ナノパウダーのみが密封されており、真空状態ではありません）。 |
| 99.9 | -200メッシュ、0-10μm、1-10mm | 粉末タイプ：1kg/5kg/真空アルミホイル袋入り、
顆粒タイプ：PPボトルに50g/500g/1000gを充填し、不活性ガスで保護されています。 |
| 99.99 | -200メッシュ、1～10mm | 50g/100g入りPPボトル、不活性ガス封入。 |
| 99.999 | ||
| 99.9999 |
応用：
1. 原子力産業における結晶性ホウ素の応用例：
Crystalline boron plays a crucial role in the nuclear energy field. It can be used as a neutralization control material in nuclear reactors. Boron can compensate for and regulate neutralization reactivity and to facilitate emergency shutdowns. Thus maintains stable reactor operation. Crystalline boron not only has a high neutralization absorption cutoff but also a wide range of neutralization energy absorption, effectively reducing or regulating the neutralization flux generated by nuclear energy. Thereby it ensures the safety of the nuclear energy system.
2. Applications of Crystalline Boron in Semiconductor Manufacturing:
Crystalline boron is also widely used in the semiconductor industry. As a p-type dopant, crystalline boron can be used to modify the conductivity of semiconductor materials. By doping crystalline boron into silicon Ingot, the conductivity properties of silicon can be altered. Then manufacture semiconductor devices with different conductivity types, such as diodes and field-effect transistors. In addition, crystalline boron can also be used as a raw material for growing long-lasting semiconductor single-crystal materials. Boron-doped silicon single crystals can be grown using a melt-blown method for fabricating high-performance semiconductor devices.
99.9% purity crystalline boron powder is used in the production of solar silicon wafers as a substrate dopant for P-type silicon wafers and as a boron emitter diffuser for N-type silicon wafers. High-purity boron powders of 5N and 6N can be used as dopants for P-type semiconductors to alter their conductivity and are used in the production of high-purity silicon wafers.
3. Application of crystalline boron in semiconductor sputtering targets:
3N and 4N crystalline boron particles can be added to functional alloy products to form targets for semiconductor sputtering coating.
4. Applications of Crystalline Boron in Optics:
Crystalline boron also has extensive applications in optics. Due to its excellent nonlinear optical properties, crystalline boron can achieve functions such as light modulation, frequency sweeping, and frequency doubling. Therefore, crystalline boron is widely used in optical devices, including optical modulators, optical frequency combs, and lasers. Furthermore, crystalline boron can also be used as a gain medium in infrared lasers, exhibiting a large emission cutoff and a wide excitation spectrum range.
5. Crystalline Boron in High-Hardness Ceramic Materials:
結晶性ホウ素は、炭化ホウ素（B4C）や黒鉛ホウ素化合物（Bg）などの高硬度材料の製造にも使用できます。炭化ホウ素は、耐摩耗性と耐高温性に優れた極めて硬いセラミック材料であり、防弾装甲、硬質工具、研磨材、耐摩耗性セラミックスの製造に広く使用されています。黒鉛ホウ素化合物は、黒鉛に似た構造を持つ材料で、高い電気伝導性と熱安定性を示し、高性能導電性バインダー、熱伝導性材料、摩擦材の製造に使用できます。
6. 熱電池における結晶性ホウ素の応用：
熱電池は、溶融塩を電解質として用いる単相熱活性化蓄電池です。小型軽量、長期保存可能、メンテナンスフリー、迅速かつ確実な活性化、広い動作温度範囲などの利点があり、一部の戦略兵器や通常兵器の点火装置に広く使用されています。熱電池のアノード材料は、容量、体積、出力に決定的な役割を果たします。熱電池のアノード材料は、初期のマグネシウム系およびカルシウム系材料から、現在のリチウム系材料へと進化してきました。例えば、Li-B複合材料は、高エネルギー密度、高出力、低分極、純リチウムに近い電気化学ポテンシャル、600℃以上の温度でも固体状態を維持するなど、優れた利点を有しています。これは最も有望な熱電池アノード材料であり、ハイエンド熱電池への応用が徐々に進んでいます。
7．軍事産業における結晶性ホウ素の応用例：
結晶性ホウ素は、高純度ホウ素セラミック弾道材料、高純度ホウ素遅延剤、高純度ホウ素溶接フラックス、高純度ホウ素爆薬、および高純度ホウ素燃料過剰・酸素欠乏ロケット推進剤の製造に使用できる。
8．合金製造における結晶性ホウ素：
高純度ホウ素銅合金、高純度ホウ素チタン合金、高純度ホウ素多結晶鋼、高純度ホウ素超硬耐摩耗工具、高純度ホウ素耐食鋼板、高純度ホウ素ニッケル合金、高純度ホウ素クロム合金、リチウムホウ素合金（新規電池材料）、ホウ素マグネシウム超伝導合金。
9. 航空宇宙分野における結晶性ホウ素の応用例：
高純度結晶性ホウ素粉末は、ナノコーティング粉末材料として使用できます。スパッタリング技術を用いて、この粉末材料を基板表面にコーティングすることで、部品の耐摩耗性、耐腐食性、耐高温性、耐酸化性、耐候性を向上させることができます。これは、航空宇宙分野における極めて過酷な使用条件下でのエンジンの要求を満たすだけでなく、光電子工学などの分野における特殊な要求にも対応可能です。
パッケージ：
よくある質問：
1. 質問：中国からの結晶性ホウ素材料の輸出に関して、何か制限はありますか？
A：はい、高純度結晶性ホウ素微粒子およびホウ素粉末については、デュアルユース輸出許可証を取得する必要があります。ただし、0.5～1mm以上の大きなサイズであれば輸出可能です。
2. Q：結晶性ホウ素粉末の結晶相は何ですか？
A：これは正二十面体構造のベータ相です。
